• ¿Tiene alguna pregunta?+86 139 2957 6863
  • Enviar correo electrónicoop@topfastpcb.com

Solicitar presupuesto

Proceso de galvanoplastia de PCB

por Topfast | martes Abr 22 2025

Clasificación de los procesos galvánicos

Cobreado brillante al ácido, Niquelado, Dorado, Estañado

Flujo de procesos

  1. Acid Dip →
  2. Panel Plating (Copper) →
  3. Pattern Transfer →
  4. Acid Cleaning →
  5. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  6. Microetching →
  7. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  8. Acid Dip →
  9. Tin Plating →
  10. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  11. Acid Dip →
  12. Pattern Copper Plating →
  13. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  14. Nickel Plating →
  15. Two-Stage Water Rinsing →
  16. Citric Acid Dip →
  17. Gold Plating →
  18. Recovery Rinse →
  19. 2-3 Stage DI Water Rinsing →
  20. Secado

(Nota: “El aclarado en contracorriente” se refiere a un método de aclarado que ahorra agua, en el que el agua dulce fluye en sentido contrario al movimiento de la pieza).

1. Inmersión en ácido

  1. Propósito
  • Eliminar los óxidos superficiales y activar el panel
  • Concentración de ácido sulfúrico: 5%-10% (evita la inestabilidad inducida por dilución)
  1. Controles clave
  • Tiempo: Evitar la inmersión excesiva para prevenir la oxidación
  • Mantenimiento: Sustituir cuando haya turbidez o el contenido de cobre supere los 20g/L
  • Producto químico: Utilizar ácido sulfúrico de grado CP.

2.Revestimiento de paneles (revestimiento primario de cobre)

  1. Propósito
  • Protege los depósitos finos de cobre químico de la oxidación/grabado
  1. Parámetros del proceso
  • High-acid, low-copper formula (H₂SO₄: 180-240g/L, CuSO₄: 75g/L)
  • Aditivos: Iones de cloruro (ayuda al abrillantado), abrillantador de cobre (dosis inicial de 3-5ml/L)
  • Current density: 2A/dm² (Calculation: Panel length × width × 2 × 2A/dm²)
  • Temperature: 22-32°C (cooling system recommended)
  1. Mantenimiento
  • Diario: Reposición de abrillantador (100-150ml/KAH), comprobación de la bomba del filtro
  • Semanal: Composition analysis (CuSO₄/H₂SO₄/Cl⁻), Hull cell testing
  • Mensualmente: Limpieza de la cesta del ánodo, filtración de carbón (6-8 horas)
  • AnualTratamiento con carbono (según sea necesario)
  1. Procedimiento de tratamiento principal
  • Anode prep: Micro-etching → Alkaline/acid soaking
  • Bath treatment: H₂O₂ oxidation → Carbon adsorption → Filtration → Electrolysis
  • Parameter adjustment: Restore H₂SO₄/CuSO₄/Cl⁻ levels

3.Limpieza ácida

  1. Propósito
  • Eliminar óxidos/residuos para garantizar la adherencia para el metalizado de patrones
  • Ácido (no alcalino): Previene el daño por resistencia
  1. Controla
  • Concentración: 10%
  • Time: ≥6 minutes
  • Bath life: 15m²/L working solution

4.Micrograbado

  1. Propósito
  • Superficie de cobre rugosa para mejorar la adherencia
  1. Parámetros
  • Grabador: Persulfato sódico (60g/L)
  • Tiempo: 20 segundos
  • Límite de cobre: <20g/L

5.Cobreado de patrones

  1. Propósito
  • Aumento del espesor del cobre para la capacidad de transporte de corriente
  1. Proceso
  • Igual que el revestimiento de paneles

6.Estañado

  1. Propósito
  • Sirve como resistencia de grabado para circuitos
  1. Parámetros
  • Bath: Stannous sulfate (35g/L), H₂SO₄ (10%)
  • Current density: 1.5A/dm²
  • Temperature: 22-30°C (cooling required)
  1. Mantenimiento
  • Análisis periódicos, limpieza de la bolsa de ánodos, tratamiento del carbón

7.Chapado en oro

  1. Tipos & Finalidad
  • Oro duro (aleación Ni/Co): Resistencia al desgaste
  • Oro suave (puro): Soldabilidad
  1. Parámetros
  • Citrate-based bath: Au 1g/L, pH 4.5, 35°C
  • Tratamiento previo:Inmersión en ácido cítrico para minimizar la contaminación
  1. Controles críticos
  • Ánodo: Titanio recubierto de platino (evite el acero inoxidable)
  • Tratamiento posterior:Inmersión alcalina para evitar la oxidación

8.Niquelado

  1. Propósito
  • Capa de barrera contra la difusión de Cu/Au; mejora la resistencia mecánica
  1. Parámetros
  • Current density: 2A/dm²
  • Temperature: 50°C (heating required)
  1. Mantenimiento
  • Reposición periódica de sulfamato/cloruro de níquel y ácido bórico
  • Los ánodos de níquel granulados requieren un desbaste superficial

Notas críticas

  1. Seguridad: Incremental H₂SO₄ addition to avoid thermal runaway
  2. Precisión: La dosificación de cloruro (30-90ppm) requiere una medición exacta
  3. Control de la contaminación: Tratamiento con carbono + electrólisis de baja corriente

Este proceso estandarizado garantiza la uniformidad del grosor, la adherencia y la fiabilidad del revestimiento.

Últimas entradas

Ver más
Póngase en contacto con nosotros
Hable con nuestro experto en PCB
es_ESES