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Processo de galvanoplastia de PCB

by Topfast | terça-feira abr 22 2025

Classificação dos processos de galvanoplastia

Revestimento de cobre brilhante com ácido, revestimento de níquel, revestimento de ouro, revestimento de estanho

Fluxo do processo

  1. Acid Dip →
  2. Panel Plating (Copper) →
  3. Pattern Transfer →
  4. Acid Cleaning →
  5. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  6. Microetching →
  7. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  8. Acid Dip →
  9. Tin Plating →
  10. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  11. Acid Dip →
  12. Pattern Copper Plating →
  13. Two-Stage Countercurrent Rinsing →
  14. Nickel Plating →
  15. Two-Stage Water Rinsing →
  16. Citric Acid Dip →
  17. Gold Plating →
  18. Recovery Rinse →
  19. 2-3 Stage DI Water Rinsing →
  20. Secagem

(Observação: "Enxágue contracorrente" refere-se a um método de enxágue com economia de água em que a água fresca flui no sentido oposto ao movimento da peça).

1. Imersão em ácido

  1. Finalidade
  • Remova os óxidos da superfície e ative o painel
  • Concentração de ácido sulfúrico: 5%-10% (evita a instabilidade induzida pela diluição)
  1. Controles principais
  • Tempo: Evite o excesso de imersão para evitar a oxidação
  • Manutenção: Substituir quando estiver turvo ou o teor de cobre exceder 20g/L
  • Produto químico: use ácido sulfúrico de grau CP

2.Revestimento do painel (revestimento primário de cobre)

  1. Finalidade
  • Proteger depósitos finos de cobre sem eletrólito contra oxidação/gravação
  1. Parâmetros do processo
  • High-acid, low-copper formula (H₂SO₄: 180-240g/L, CuSO₄: 75g/L)
  • Aditivos: Íons de cloreto (auxílio ao branqueador), branqueador de cobre (dose inicial de 3-5 ml/L)
  • Current density: 2A/dm² (Calculation: Panel length × width × 2 × 2A/dm²)
  • Temperature: 22-32°C (cooling system recommended)
  1. Manutenção
  • Diariamente: Reabastecimento de abrilhantador (100-150 ml/KAH), verificações da bomba do filtro
  • Semanal: Composition analysis (CuSO₄/H₂SO₄/Cl⁻), Hull cell testing
  • Mensal: Limpeza da cesta de ânodos, filtragem de carbono (6-8 horas)
  • AnualTratamento com carbono (conforme necessário)
  1. Procedimento de tratamento principal
  • Anode prep: Micro-etching → Alkaline/acid soaking
  • Bath treatment: H₂O₂ oxidation → Carbon adsorption → Filtration → Electrolysis
  • Parameter adjustment: Restore H₂SO₄/CuSO₄/Cl⁻ levels

3.Limpeza com ácido

  1. Finalidade
  • Remover óxidos/resíduos para garantir a aderência do revestimento de padrões
  • Ácido (não alcalino): Evita danos resistentes
  1. Controles
  • Concentração: 10%
  • Time: ≥6 minutes
  • Bath life: 15m²/L working solution

4.Microetching

  1. Finalidade
  • Tornar a superfície de cobre mais áspera para melhorar a ligação
  1. Parâmetros
  • Condicionador: Persulfato de sódio (60g/L)
  • Tempo: 20 segundos
  • Limite de cobre: <20g/L

5.Padrão de revestimento de cobre

  1. Finalidade
  • Aumente a espessura do cobre para obter capacidade de condução de corrente
  1. Processo
  • Igual ao revestimento do painel

6.Estanhagem

  1. Finalidade
  • Serve como resistência de gravação para circuitos
  1. Parâmetros
  • Bath: Stannous sulfate (35g/L), H₂SO₄ (10%)
  • Current density: 1.5A/dm²
  • Temperature: 22-30°C (cooling required)
  1. Manutenção
  • Análise regular, limpeza do saco de ânodo, tratamento de carbono

7.Revestimento de ouro

  1. Tipos e finalidade
  • Ouro duro (liga de Ni/Co): Resistência ao desgaste
  • Ouro macio (puro): Soldabilidade
  1. Parâmetros
  • Citrate-based bath: Au 1g/L, pH 4.5, 35°C
  • Pré-tratamento:Imersão em ácido cítrico para minimizar a contaminação
  1. Controles críticos
  • Ânodo: Titânio revestido de platina (evite aço inoxidável)
  • Pós-tratamento:Mergulho alcalino para evitar a oxidação

8.Niquelagem

  1. Finalidade
  • Camada de barreira contra a difusão de Cu/Au; aumenta a resistência mecânica
  1. Parâmetros
  • Current density: 2A/dm²
  • Temperature: 50°C (heating required)
  1. Manutenção
  • Reabastecimento regular de sulfamato/cloreto de níquel e ácido bórico
  • As pelotas de níquel do ânodo requerem desbaste da superfície

Notas críticas

  1. Segurança: Incremental H₂SO₄ addition to avoid thermal runaway
  2. Precisão: A dosagem de cloreto (30-90 ppm) requer medição exata
  3. Controle de contaminação: Tratamento de carbono + eletrólise de baixa corrente

Esse processo padronizado garante espessura uniforme do revestimento, adesão e confiabilidade.

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